고밀도 AI 칩의 열을 발생원에서
직접 제어합니다

AIT-E Advanced Cold Plate

Coldplate · Intro

콜드플레이트 소개 영상

고발열 GPU·CPU를 위한 Direct-to-Chip Liquid Cooling

열·유동 최적화를 통해 고밀도 AI 서버의 안정적인 열관리를 구현합니다

고발열 AI 칩의 열을 발생원에서 직접 제거합니다

GPU·CPU 표면에 직접 접촉하여 열을 냉각수로 전달하는 고성능 Direct-to-Chip Cold Plate입니다

[KEY SPECIFICATIONS]
65 × 65 × 13 mm · OFHC Copper · Diffusion Bonding
Multi-Stage Microchannel · Thermal Resistance 0.008–0.009 K/W*

AIT-E 콜드플레이트 완성품

AIT-E COLD PLATE

Multi-Stage Microchannel Architecture

65 × 65 × 13 mm

3단 적층 미세채널 구조로 유동과 열전달을 정밀하게 제어합니다.

3-Stage Microchannel Architecture · Engineered Flow. Optimized Heat Transfer.

콜드플레이트 전체샷
Full View

콜드플레이트 전체샷

콜드플레이트 디테일컷
Detail View

콜드플레이트 디테일컷

Tier 1·2·3 유로 흐름 다이어그램
1

Tier 1 유입 · 분배층 DISTRIBUTE

냉각수를 미세채널 영역으로 안정적으로 공급합니다.

2

Tier 2 열교환층 TRANSFER

냉각수를 발열면에 균일하게 분배하여 국부 과열(Hot Spot)을 억제합니다.

3

Tier 3 회수 · 배출층 COLLECT

가열된 냉각수를 효율적으로 회수하여 안정적인 순환 유동을 형성합니다.

균일한 유동 분배 Hot Spot 억제 안정적인 열 회수

고신뢰 진공 확산접합 구조

다층 구조를 진공 확산접합으로 일체화하여 접합부를 최소화하고, 고압·장기 운전을 고려한 구조적 신뢰성을 확보합니다

01 정밀 가공

정밀가공

OFHC Copper 기반 미세유로 정밀 CNC 가공

02 다층 적층

다층 적층

다단 열·유동 구조의 정밀 적층 및 정렬

03 진공 확산접합

진공 확산접합

진공·가압 조건에서 모재 간 확산접합을 통한 일체화

04 품질검증

품질검증

내압·기밀·누설 시험을 통한 제품 신뢰성 검증

상세 사양

제품 크기 65 × 65 × 13 mm
소재 OFHC Copper
유로 구조 Multi-Stage Microchannel Architecture
제조 Vacuum Diffusion Bonding
열저항 0.008–0.009 K/W*
해석 High-Resolution CFD Thermal/Flow Analysis
운전 Warm-Water Cooling Compatible

CFD로 설계하고,
실측 데이터로 검증합니다.

열·유동 해석을 기반으로 설계를 최적화하고, 시제품 시험을 통해 성능을 반복 검증합니다

26.62M

CFD Mesh Cells

High-Resolution Analysis

0℃

Chip Surface Temperature

POC Measured

0.008–0.009

Thermal Resistance

Analysis Result*

REFERENCE DESIGN · CFD

기준 구조 열·유동 해석

AIT-E DESIGN · CFD

AIT-E Cold Plate 열·유동 해석

결과는 특정 시험 및 해석 조건에 따른 값이며, 상세 조건은 R&D Validation Data를 참조하십시오

Rev.01 → Rev.02 성능 개선 그래프

Rev.01 → Rev.02

  • Rev.01 ΔT 10.1℃ · 최고 65.5℃ · 차압 129kPa
  • Rev.02 최고 58~60℃ · 차압 80~90kPa

순환 부하 대폭 절감

※ 결과는 특정 시험 및 해석 조건에 따른 값이며, 상세 조건은 R&D Validation Data 를 참조하십시오

잔여열은 3중관 냉각 패널이 회수합니다